一台几十亿！台积电、Intel、三星疯抢ASML EUV光刻机

台积电今天（6月17日）在北美技术论坛上发布了新的制程路线图，定于2025年量产2nm工艺，其选用Nanosheet（纳米片电晶体）的微观结构，替代FinFET。

期间，台积电乃至规划了5种3nm制程，包含N3、N3E、N3P、N3S和N3X

台积电还雄心壮志地提出，要在2025年前将老练和专业化制程的产能进步50%，包含兴修更多的晶圆厂。

明显，作为产能提高以及兴修晶圆厂的要害中心设备，EUV光刻机少不了要收购一大批。

台积电表明，方案在2024年引进ASML的新一代EUV极紫外光刻机。

此前，Intel曾说自己是第一个订货ASML下一代EUV光刻机的厂商，方案2025年前使用上。

三星这边也是不甘示弱，本周副会长李在镕亲赴荷兰会晤ASML高层，听说至少争夺到了18台（ASML本年估计出货51台EUV）。

材料显现，荷兰ASML正在研制新款光刻机High-NA EXE:5200（0.55NA），所谓High-NA也便是高数值孔径，2nm之后的节点都得依靠它完成。

这款光刻机价值高达4亿美元（约合26亿元人民币），双层巴士大、重超200吨。

三星光刻机 ASML EUV光刻机

本文由幽冥于2022-06-18发表在悠哉头条，如有疑问，请联系我们。
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